ВАНТ №1 2005

СОДЕРЖАНИЕ СТАТЬЯ

CHARACTERISTICS OF THE PLASMA CREATED BY ECR PLASMA SOURCE FOR THIN FILMS DEPOSITION


V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin
Institute of Plasma Physics of the NSC KIPT, 61108, Kharkov, Ukraine


The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5*1010 сm-3 and 22,5 eV accordingly and they linearly decreased with the moving off from ECR zone. The possibility of homogeneous and dense films deposition for both pure metals and alloys is shown.

ХАРКТЕРИСТИКИ ПЛАЗМЫ, СОЗДАННОЙ ЭЦР ПЛАЗМЕННЫМ ИСТОЧНИКОМ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК


В.Д. Федорченко, О.В. Бырка, В.В. Чеботарев, И.Е. Гаркуша, В.И. Терешин


В работе описана конструкция планарного ЭЦР плазменного источника с мультипольным магнитным полем и измерены распределения параметров создаваемой плазмы. На расстоянии 2,5 см от поверхности магнитов плотность плазмы и электронная температура 5*1010 см-3 и 22,5 еВ соответственно, которые линейно спадают при удалении от ЭЦР зоны. Показана возможность напыления однородных и плотных пленок, как чистых металлов, так и сплавов.

ХАРАКТЕРИСТИКИ ПЛАЗМИ СТВОРЕНОЇ ЕЦР ПЛАЗМОВИМ ДЖЕРЕЛОМ ДЛЯ НАНЕСЕННЯ ТОНКИХ ПЛІВОК


В.Д. Федорченко, О.В. Бирка, В.В. Чеботарьов, І.Є. Гаркуша, В.І. Терьошин


В роботі розглянута конструкція планарного ЕЦР плазмового джерела з мультипольним магнітним полем та виміряно розподіл параметрів створюваної плазми. На відстані 2,5 см від поверхні магнітів густина плазми та електронна температура 5 *1010 см-3 та 22,5 еВ відповідно, які лінійно зменшуються при віддаленні від ЕЦР зони. Показана можливість нанесення однорідних та щільних плівок, як чистих металів, так і сплавів.