<HTML><HEAD><TITLE>АННОТАЦИИ
</TITLE></HEAD>
<BODY LINK=#000080 ALINK=#483D8B VLINK=#000000>
	<TABLE ALIGN=CENTER CELLSPACING=1 CELLPADDING=5 BORDER=10 BACKGROUND="../images/003.gif" BGCOLOR=#D8BFD8 WIDTH=80% >
	<TR  ALIGN=CENTER CELLSPACING=0>
<TD COLSPAN=2><H2>ВАНТ №2 2005</H2></TD>
<TR><TD  BGCOLOR=#f5f5f5 ALIGN=CENTER WIDTH=50% HEIGHT=15>
<A HREF="../CONTENTS/CONTENTS_2005_2.html#KEY5">СОДЕРЖАНИЕ</A></TD>
<TD BGCOLOR=#f5f5f5 ALIGN=CENTER WIDTH=50% HEIGHT=15><A HREF="../ARTICLE/VANT_2005_2/article_2005_2_191.pdf">СТАТЬЯ</A></TD></TR>
<TR><TD COLSPAN=2 >
<P><CENTER><H4><EM>
THE INFLUENCE OF A DC ELECTRIC FIELD ON THE RADIO-FREQUENCY MICRODISCHARGE</EM></H4></CENTER><BR>
N.A. Bogatov<BR>
Institute of applied physics, Nizhni Novgorod, Russia, bogatov@appl.sci-nnov.ru</P><BR><P>
The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field.  
</P></TD></TR>
<TR><TD COLSPAN=2>
<P><CENTER><H4><EM>
ВЛИЯНИЕ ПОСТОЯННОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ НА ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ МИКРОРАЗРЯД</EM></H4></CENTER><BR>
Н.А. Богатов</P><BR><P>
Рассчитана зависимость частоты ионизации в стационарном высокочастотном микроразряде от концентрации плазмы и постоянного напряжения, приложенного к плазме разряда. Расчет выполнен для плоской геометрии в предположении однородности высокочастотного поля.</P></TD></TR>
<TR><TD COLSPAN=2>
<P><CENTER><H4><EM>
ВПЛИВ ПОСТІЙНОГО ЕЛЕКТРИЧНОГО ПОЛЯ НА ВИСОКОЧАСТОТНИЙ МІКРОРОЗРЯД</EM></H4></CENTER><BR>
М.О. Богатов</P><BR><P>
Розрахована залежність частоти іонізації в стаціонарному високочастотному мікророзряді від концентрації плазми і постійної напруги, прикладеної до плазми розряду. Розрахунок виконаний для плоскої геометрії в припущенні однорідності високочастотного поля.
</P></TD></TR>
</TABLE></BODY></HTML>